[15a-B7-1~14] 8.1 Plasma production and control

[15a-B7-2] Time Resolved Optical Emission Spectroscopic Measurements in Microwave Excited Water Plasma during Ashing Process

〇TAKUYA KITANO¹, HIROAKI SUZUKI¹, ARUFUA SHIOTA¹, TATSUO ISHIJIMA¹, YASUNORI TANAKA¹, YOSHIHIKO UESUGI¹ (1.Kanazawa Univ.)

Keywords:water plasma ashing, photoresist removing, spectroscopic diagnostics

水プラズマアッシング法は，超純水を原料ガスとしたマイクロ波励起の水プラズマを生成し，ウェハを直接冷却する環境下でレジスト除去を行うことが特徴である。本手法の実用化を進める上で，レジスト除去のメカニズムを解明し，水プラズマの生成と制御に対するフィードバックを行うことが重要である。本報ではレジスト除去メカニズムの検討のため，水プラズマアッシングプロセスにおける時分解の発光分光計測を行ったので報告する。