2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.1 プラズマ生成・制御

[15a-B7-1~14] 8.1 プラズマ生成・制御

2016年9月15日(木) 09:00 〜 12:30 B7 (展示ホール内)

三沢 達也(佐賀大)、石島 達夫(金沢大)

09:15 〜 09:30

[15a-B7-2] マイクロ波励起の水プラズマアッシングプロセスにおける時分解発光分光計測

北野 卓也1、鈴木 宏明1、塩田 有波1、石島 達夫1、田中 康規1、上杉 喜彦1 (1.金沢大)

キーワード:水プラズマアッシング、レジスト除去、分光診断

水プラズマアッシング法は,超純水を原料ガスとしたマイクロ波励起の水プラズマを生成し,ウェハを直接冷却する環境下でレジスト除去を行うことが特徴である。本手法の実用化を進める上で,レジスト除去のメカニズムを解明し,水プラズマの生成と制御に対するフィードバックを行うことが重要である。本報ではレジスト除去メカニズムの検討のため,水プラズマアッシングプロセスにおける時分解の発光分光計測を行ったので報告する。