2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[15a-C302-1~12] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2016年9月15日(木) 09:00 〜 12:15 C302 (日航30階鳳凰)

加藤 智久(産総研)

11:30 〜 11:45

[15a-C302-10] 高速SiCレーザスライシングの加工品質評価

西野 曜子1、平田 和也1、高橋 邦充1 (1.(株)ディスコ)

キーワード:SiC、パワーデバイス、レーザ

レーザスライシング技術によるウェーハ加工について報告する。加工時間は4”インゴットの場合ウェーハ1枚当たり8分を達成、ウェーハ取枚数は材料ロスが少ないため現状のワイヤー加工の1.5倍を実現している。本技術によって切り出された4”ウェーハのTTVは3.2mm、Warpは3.8umであった。この結果、従来必要不可欠であったラップ研削工程を省略でき、ウェーハメイキング工程のリードタイムを大幅に短縮することが可能となる。