The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

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Oral presentation

Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices" » Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[15p-A22-1~17] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Thu. Sep 15, 2016 1:30 PM - 6:00 PM A22 (Main Hall B)

Yasuaki Ishikawa(NAIST), Mamoru Furuta(Kochi Univ. of Tech.)

4:00 PM - 4:15 PM

[15p-A22-10] Characterization of reliability in amorphous IGZO and the IGZO thin film transistors

Satoru Tanaka1, Shimizu kousaku1 (1.Nihon University)

Keywords:ITZO, CPM, thin film transistors

高い移動度を持つ非晶質InGaZnO4(a-IGZO)、InGaZnO4(a-ITZO)は、液晶駆動用トランジスタとして既に実用化されている。しかし現在、a-IGZO TFT、a-ITZO TFTに対する負バイアスストレス下光照射(NBIS)による閾電圧シフトが知られている。
今回はa-IGZO、a-ITZO TFTに劣化条件を与えて、劣化前後のCPM測定結果を比較した。