2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[15p-A22-1~17] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2016年9月15日(木) 13:30 〜 18:00 A22 (メインホールB)

石河 泰明(奈良先端大)、古田 守(高知工科大)

17:00 〜 17:15

[15p-A22-14] ナノインプリント法によるシクロオレフィンポリマーを用いた酸化亜鉛系薄膜のダイレクトパターンニング

ハナキ アブドゥラ1、木村 史哉1、永山 幸希1、芦田 浩平1、孫 屹1、小山 政俊1、前元 利彦1、佐々 誠彦1 (1.阪工大ナノ材研)

キーワード:ナノインプリント、酸化亜鉛