2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.8 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[15p-A23-1~20] 15.8 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2016年9月15日(木) 13:15 〜 18:45 A23 (201B)

前田 貴弘(グローバルウェーハズ・ジャパン)、小島 拓人(明治大)、大野 裕(東北大)

14:00 〜 14:15

[15p-A23-4] パワーデバイス内部の空乏層の評価(2)数値計算との比較
パワーデバイス用結晶の評価(ⅩⅩ)

山本 秀和1、小森 郷平1、小田 昭紀1、潤間 威史1、佐藤 宣夫1 (1.千葉工大工)

キーワード:パワーデバイス、半導体、シミュレーション

我々は、多機能走査型プローブ顕微鏡により、逆バイアス有無における60 V耐圧のSiショットキーダイオード内部の空乏層を評価した。その結果、ケルビンプローブ顕微鏡(KFM:Kelvin-prove force microscope)による表面電位評価で、ショットキー接触部で表面電位が不均一になる現象が確認された。ここでは、KFMによる評価結果を、数値計算によりある程度再現できることが判明したので報告する。