[15p-A33-1~19] 17.2 グラフェン

△ [15p-A33-10] ドライ転写技術により印加した自立グフェンのひずみ評価

〇石田 隼斗¹、澤田 和明¹、高橋 一浩¹ (1.豊橋技術科学大学)

キーワード：グラフェン、ドライ転写

本研究では、グラフェンのデバイス応用に向け、新規ドライ転写技術による単層グラフェンキャビティ封止構造を形成し、ラマン測定による自立グラフェンのひずみの評価結果を報告する。