2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15p-B10-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年9月15日(木) 13:45 〜 18:30 B10 (展示控室1)

佐々木 実(豊田工大)

14:45 〜 15:00

[15p-B10-4] 3D多光子造形体への磁性マイクロ粒子の位置選択導入と磁気応答

鈴木 勝大1、西山 宏昭1 (1.山形大院理工)

キーワード:フェムト秒レーザ、多光子重合、3D構造体

多光子造形体の特定部位への磁性マイクロ粒子導入と外部磁場による操作について報告する.フェムト秒レーザ多光子造形法は,任意の3D形状を容易に形成できるが,構造体に機能性異種材料を部分的に組み合わせることは困難であった.我々は,磁性マイクロ粒子と多光子造形体間の凝着力に着目することで3D構造体の特定部位への磁性粒子導入と強固な固定に成功した.