[15p-B9-1~17] 13.3 絶縁膜技術

[15p-B9-13] CVD法により作製したGeO₂/Ge構造に対するPost Metallization Annealingの効果

〇羽田野 拓己¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大工)

キーワード：CVD、GeO2