The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

13 Semiconductors » 13.3 Insulator technology

[15p-B9-1~17] 13.3 Insulator technology

Thu. Sep 15, 2016 1:15 PM - 5:45 PM B9 (Exhibition Hall)

Tsutomu Tezuka(TOSHIBA), Toyohiro Chikyo(NIMS)

4:45 PM - 5:00 PM

[15p-B9-14] A Study for the effect of Hydrogen Treatment for Ge-MIS Structure

Yosuke Sekiya1, Iwazaki Yoshitaka1, Tomo Ueno1 (1.Tokyo Univ. of agri. &Tech.)

Keywords:Ge-MIS structure, Hydrogen treatment

Si-MOS構造に対する水素処理の改善効果が報告されているが、Ge-MOS構造ではそのような報告は極めて少ないため、逆に特性の悪化が示唆される。本研究ではGeO2/Ge.GeN/Geそれぞれに対して水素処理を施し、改善効果が見られるか調査した。