[15p-B9-1~17] 13.3 絶縁膜技術

[15p-B9-14] Ge-MIS構造に対する水素処理の効果に関する検討

〇関谷 陽介¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大院工)

キーワード：Ge-MIS構造、水素処理

Si-MOS構造に対する水素処理の改善効果が報告されているが、Ge-MOS構造ではそのような報告は極めて少ないため、逆に特性の悪化が示唆される。本研究ではGeO₂/Ge.GeN/Geそれぞれに対して水素処理を施し、改善効果が見られるか調査した。