[15p-P13-1~17] 16.3 シリコン系太陽電池

[15p-P13-7] 固定砥粒方式スライス多結晶シリコン太陽電池におけるテクスチャ構造の形成

矢部 俊一¹、五十棲 一裕¹、〇渡邊 良祐¹、齋藤 洋司¹、森脇 和弘²、山本 裕三² (1.成蹊大院理工、2.攝津製油)

キーワード：テクスチャ、太陽電池

太陽電池用多結晶Si基板では、ウェハスライス時に生じた欠陥層が優先的にエッチングされる酸処理によるテクスチャ形成が主に行われる。本研究では、基板表面の欠陥が少なく酸処理によるテクスチャ形成が困難な固定砥粒方式スライス基板において、洗浄と同時に酸テクスチャの形成を促進させる前処理の導入、または、アルカリ溶液により良質なテクスチャ構造を形成し、太陽電池の光電変換特性へ及ぼす影響を評価した。