The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

Presentation information

Poster presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.2 Carbon-based thin films

[15p-P2-1~15] 6.2 Carbon-based thin films

Thu. Sep 15, 2016 1:30 PM - 3:30 PM P2 (Exhibition Hall)

1:30 PM - 3:30 PM

[15p-P2-5] Chemical Bonding Structures of Amorphous Carbon Nitride Thin Films Deposited by Reactive Sputtering : Implications for Photon Energy Conversion

Masami Aono1, Tomo Harata1, Hisashi Miyazaki1, Hiroshi Abe1, Shingo Ishii2, Yohei Sato2, Masami Terauchi2 (1.NDA, 2.IMRAM Tohoku Univ.)

Keywords:amorphous carbon nitride, sputtering, chemical bonding states

アモルファス窒化炭素a-CNxは、光学バンドギャップが可視光領域にあり、光電効果および光誘起変形が見られる材料である。これらの可視光に対する応答の違いは、結合状態によって決定されているものと思われるが、光エネルギー変換への結合状態の寄与は未解明の部分が多い。そこで本研究では、XPS、SXES、EELSの各分光法を用いて、化学結合状態と光電効果、光誘起変形の関係を調べた。