[15p-P6-1~16] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[15p-P6-1] NdFeB/Ta磁性薄膜のスパッタリング成膜

小玉 康太¹、日巻 智裕¹、篠原 正典¹、〇松田 良信¹ (1.長崎大工)

キーワード：ネオジウム鉄ボロン、磁気エネルギー密度、保磁力

NdFeB/Ta多層薄膜の利用により不可逆熱減磁率を150℃において5％以下に抑える永久磁石特性を得ること研究目的として，その第一段階としてNd₂Fe₁₄B/Ta単層薄膜を作成し，その結晶特性と磁気特性を評価した．NdFeB膜厚600nm，Ta膜厚40nmの条件で，80kJ/m³を超える磁気エネルギー密度(BH)maxと960kA/m程度の保磁力を有する特性を得た．