[15p-P6-1~16] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

△ [15p-P6-3] ECR-MWプラズマ源イオンビームスパッタ法へのRF基板バイアス印加によるCu薄膜形成

〇針谷 達¹、山野 将史¹、今井 貴大¹、飯島 佑史¹、磯野 凌¹、須田 善行¹、滝川 浩史¹ (1.豊橋技科大)

キーワード：イオンビームスパッタ、RFプラズマ、金属薄膜