[16p-A22-1~6] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[16p-A22-4] Solid-phase crystallization of amorphous CuCrO₂ thin films deposited by RF magnetron sputtering using Ar/N₂ mixture gas

〇Hiroshi Chiba^1,2, Naotoshi Hosaka¹, Tomoyuki Kawashima¹, Katsuyoshi Washio¹ (1.Tohoku Univ., 2.JSPS Research Fellow)

Keywords:delafossite, solid-phase crystallization, RF magnetron sputtering

これまでにRFマグネトロンスパッタ法によるCuCrO₂薄膜形成において、アルゴン窒素混合（Ar/N₂）ガス利用による定比性の改善効果と、アモルファスからの熱処理を用いた固相成長による傾斜配向抑制を見出している。本研究では、Ar/N₂ガスにより定比性制御したアモルファスCuCrO₂薄膜の固相成長を検討した。発表では、アモルファス膜の定比性と固相成長による配向性の関係について述べる。