2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[16p-A24-1~11] 16.3 シリコン系太陽電池

2016年9月16日(金) 13:15 〜 16:15 A24 (201A)

大平 圭介(北陸先端大)、齋 均(産総研)

15:30 〜 15:45

[16p-A24-9] ナノインプリンテッドテクスチャ構造を有する高効率太陽電池に向けたSi-rich-SiNのアニール温度による影響

〇(D)吉永 征矢1、石河 泰明1、姜 雲建1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)

キーワード:シリコン太陽電池、ナノインプリント技術、Si-rich-SiN

我々の提案するナノインプリンテッドテクスチャ構造ではテクスチャと基板の屈折率の違いから界面反射の増大により表面反射率の上昇が懸念された.そこで高屈折率材料であるSi-rich-SiNを挿入する手法を提案し,表面反射率の低減に繋がった.ここで,アニール温度によりSi-rich-SiNの光学特性が変化するという問題が生じた.本報告ではSi-rich-SiNのアニール温度による影響について検討を行った.