[16p-B10-1~12] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /MEMS/Integration technology

[16p-B10-10] CMOSFET Fabrication by Minimal Spin-on Dopant Process using Plasma Enhanced CVD TEOS as Thermal diffusion mask

〇Kazuhiro Koga^1,2, Fumito Imura^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimalfab, thermal diffusion mask

我々はイオン注入法の代わりに、スピンオンによる熱拡散法を採用したミニマルドーピングプロセスにてCMOSインバータの試作を検討している。今回はPE-CVD TEOS膜を熱拡散マスクに適用し、拡散層表面濃度変化の抑制効果について報告する。