[16p-B3-1~9] 6.5 表面物理・真空

△ [16p-B3-1] NO プローブ分子を用いた光電子分光法 (XPS/UPS) による N-doped a-C 薄膜の表面構造の評価

〇(DC)村田 悠馬¹、中山 廉平¹、小野 洋¹、チュウ チャオキョン²、田中 勝己¹ (1.電通大先進理工、2.電通大国際交流)

キーワード：アモルファスカーボン、NO吸着、窒素ドープ