13:30 〜 15:30
[16p-P3-1] 反応性ガス環境における斜入射蒸着およびスパッタリング膜の
微細構造シミュレーション
キーワード:シミュレーション、斜め堆積、反応性蒸着
一般セッション(ポスター講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.5 プラズマナノテクノロジー
2016年9月16日(金) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホール)
13:30 〜 15:30
キーワード:シミュレーション、斜め堆積、反応性蒸着