16:00 〜 18:00
〇(D)唐 浩峻1、Chun-Yi Chen1,2、Tso-Fu Mark Chang1,2、町田 克之1,2,3、山根 大輔1,2、益 一哉1,2、曽根 正人1,2 (1.東工大精研、2.CREST JST、3.NTT AT)
唐 浩峻
発表者・著者、共著者
2016年3月21日(月) 16:00 〜 18:00 P17 (屋内運動場)
- 一般セッション(ポスター講演)
- | 13 半導体
- | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2016年3月21日(月) 16:00 〜 18:00 P17 (屋内運動場)
16:00 〜 18:00
〇(D)唐 浩峻1、Chun-Yi Chen1,2、Tso-Fu Mark Chang1,2、町田 克之1,2,3、山根 大輔1,2、益 一哉1,2、曽根 正人1,2 (1.東工大精研、2.CREST JST、3.NTT AT)