Ahmed SheikhRashel Al

→ Google ScholarでSheikhRashel Al Ahmedを検索

発表者・著者、共著者

2016年3月20日(日) 09:00 〜 12:15 S221 (南2号館)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[20a-S221-1~12] 13.3 絶縁膜技術

10:00 〜 10:15

▲ [20a-S221-5] Charge retention characteristics of charge trapping nonvolatile memories with silicon carbonitride (SiCN) dielectrics (II)

〇(D)Ahmed SheikhRashel Al¹、Uehara Fumiya²、Kobayashi Kyoteru^1,2 (1.GRAD SCH S&T, Tokai Univ、2.GRAD SCH Eng, Tokai Univ)