14:30 〜 14:45
〇西村 幸恵1、菅 大介1、島川 祐一1,2 (1.京大化研、2.JST-CREST)
西村 幸恵
発表者・著者、共著者
2016年3月19日(土) 13:15 〜 19:00 H111 (本館)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 6 薄膜・表面
- | 6.3 酸化物エレクトロニクス
2016年3月19日(土) 13:15 〜 19:00 H111 (本館)
14:30 〜 14:45
〇西村 幸恵1、菅 大介1、島川 祐一1,2 (1.京大化研、2.JST-CREST)