09:30 〜 09:45
〇(D)高本 聡1、山崎 隆浩2,3、大野 隆央2,3,4、金田 千穂子3,5、泉 聡志1、酒井 信介1 (1.東大工、2.物材機構、3.MARCEED、4.東大生産研、5.富士通研究所)
高本 聡
発表者・著者、共著者
2016年3月20日(日) 09:00 〜 12:15 S221 (南2号館)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.3 絶縁膜技術
2016年3月20日(日) 09:00 〜 12:15 S221 (南2号館)
09:30 〜 09:45
〇(D)高本 聡1、山崎 隆浩2,3、大野 隆央2,3,4、金田 千穂子3,5、泉 聡志1、酒井 信介1 (1.東大工、2.物材機構、3.MARCEED、4.東大生産研、5.富士通研究所)