10:30 〜 10:45
〇内田 啓貴1、塩尻 大士1、福田 大二1、土嶺 信男2、小山 浩司3、金子 智4、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東京工業大学、2.(株)豊島製作所、3.(株)並木精密宝石、4.神奈川県産技セ)
内田 啓貴
発表者・著者、共著者
2016年3月20日(日) 09:00 〜 11:45 W321 (西2・3号館)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 3 光・フォトニクス
- | 3.7 レーザープロセシング
2016年3月20日(日) 09:00 〜 11:45 W321 (西2・3号館)
10:30 〜 10:45
〇内田 啓貴1、塩尻 大士1、福田 大二1、土嶺 信男2、小山 浩司3、金子 智4、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東京工業大学、2.(株)豊島製作所、3.(株)並木精密宝石、4.神奈川県産技セ)