17:15 〜 17:30 [20p-H113-12] 非弾性X線散乱法によるScNエピタキシャル膜のフォノン分散と寿命 〇内山 裕士1、大島 祐一2、Villora Garcia2、島村 清史2 (1.JASRI/SPring8、2.物材機構)