16:30 〜 16:45 [20p-S222-14] 常圧MOCVD法によるCuO薄膜の作製 (2) 〇藤原 一樹1、寺村 瑞樹1、田口 健太朗1、谷口 凱1、酒井 駿吾1、石川 博康1,2 (1.芝浦工大、2.SIT GI研究センター)