10:15 〜 10:30
〇尾沼 猛儀1,2、齋藤 伸吾2、佐々木 公平3,2、後藤 健3、増井 建和3、山口 智広1、本田 徹1、倉又 朗人3、東脇 正高2 (1.工学院大、2.情通機構、3.タムラ製作所)
尾沼 猛儀
発表者・著者、共著者
2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 S222 (南2号館)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 合同セッションＫ
- | 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 S222 (南2号館)
10:15 〜 10:30
〇尾沼 猛儀1,2、齋藤 伸吾2、佐々木 公平3,2、後藤 健3、増井 建和3、山口 智広1、本田 徹1、倉又 朗人3、東脇 正高2 (1.工学院大、2.情通機構、3.タムラ製作所)