17:15 〜 17:30 [21p-H111-17] Si 基板上への 鉄酸化物ナノドットの固相エピタキシャル成長とその電気特性評価 〇前田 佳輝1、黒川 翼1、石部 貴史1、渡辺 健太郎1、成瀬 延康2、中村 芳明1 (1.阪大院基礎工、2.北海道大学)