仁部翔太

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発表者・著者、共著者

2016年3月21日(月) 16:00 〜 18:00 P17 (屋内運動場)

一般セッション(ポスター講演)
| 13 半導体
| 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21p-P17-1~26] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

16:00 〜 18:00

[21p-P17-2] ガラス基板上のHigh-kゲート絶縁膜を有する自己整合メタルダブルゲート Ni-SPC 低温 Poly-Si TFT

〇仁部翔太¹、原明人¹ (1.東北学院大工)