13:30 〜 15:30 [21p-P3-8] マイクロ波プラズマCVD 法による多結晶ダイヤモンド成長におけるSi 基板上へのSi 薄膜の挿入 〇古畑 武夫1、品川 友宏1、山林 弘也1、仲村 恵右1、山田 英明2、山向 幹雄1 (1.三菱電機、2.産総研)