一般セッション(口頭講演)
[21a-W834-1~5] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長
09:00 〜 09:15
〇一野 祐亮1,2、 吉田 隆2 (1.名大未来研、2.名大院工)
09:15 〜 09:30
〇高井 洋輔1、 塚原 志穂2、 一瀬 中3、 末吉 哲郎4、 藤吉 孝則4、 向田 昌志1 (1.九大院工、2.九大工、3.電中研、4.熊大院工)
09:30 〜 09:45
〇半沢 幸太1、 佐藤 光1、 平松 秀典1,2、 神谷 利夫1,2、 細野 秀雄1,2 (1.東工大応セラ研、2.東工大元素戦略)
09:45 〜 10:00
〇下田 佑太郎1、 竹原 寛人1、 堀井 滋1、 土井 俊哉1、 楠 敏明2、 一瀬 中3 (1.京大院エネ科、2.日立製作所、3.電中研)
10:00 〜 10:15
〇迫田 將仁1、 菊池 素之1、 内藤 方夫1 (1.農工大工)