2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-H111-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2016年3月19日(土) 13:15 〜 19:00 H111 (本館)

上野 和紀(東大)、土屋 敬志(東理大)

13:45 〜 14:00

[19p-H111-3] 極微細VO2ヘテロナノウォール細線の作製と金属-絶縁体転移特性

〇(M1)坪田 智司1、服部 梓1,2、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.JSTさきがけ)

キーワード:二酸化バナジウム、パルスレーザー堆積法、金属-絶縁体転移