2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-H121-1~16] 15.4 III-V族窒化物結晶

2016年3月19日(土) 13:15 〜 18:00 H121 (本館)

有田 宗貴(東大)、太田 実雄(東大)、小島 一信(東北大)

17:30 〜 17:45

[19p-H121-15] カーボンナノチューブ/GaN 界面の電気特性とバンド構造の評価

横川 俊哉1、三宅 祥太1、山下 輝1、毛利 裕治1、中山 雅晴1 (1.山口大工)

キーワード:窒化物系半導体、カーボンナノチューブ、バンド構造

窒化物系半導体を用いたパワーデバイスや高出力LED の開発が活発に行われている。これらのデバイスの大電流動作では多量の発熱を伴うため、効率的な熱放散が必要とされる。カーボンナノチューブは極めて高い熱伝導率と電気伝導度を持つため、電極や配線材料として期待される。今回、n 型GaN 膜上に直流電着法により形成したカーボンナノチューブ薄膜におけるカーボンナノチューブ/GaN 界面の電気特性とバンド構造について評価を行ったので報告する。