[19p-H137-1~17] 7.1 X線技術

[19p-H137-15] レーザー励起プラズマEUV光源ターゲット分散過程のモデル構築(2)

〇佐々木 明¹、砂原 淳²、西原 功修³ (1.原子力機構、2.レーザー総研、3.阪大レーザー研)

キーワード：リソグラフィ、シミュレーション、流体力学

リソグラフィ用EUV光源の特性の評価、特にダブルパルスレーザー励起におけるSnターゲットの分散過程、微粒子の評価のための理論モデルの研究を行っている。２次元ラグランジ流体シミュレーションにおいて、微粒子の形状、配置に合わせてメッシュを再構築する手法、平衡熱力学に基づいて、媒質の温度、密度に対する気液の比率や、相転移の際の潜熱を求める手法の開発を行い、高温のSn液滴の膨張過程の計算を行った結果を報告する。