[19p-H137-1~17] 7.1 X-ray technologies

[19p-H137-16] Simulation of laser-irradiated Tin droplet for EUV light source

〇Atsushi Sunahara¹, Katsunobu Nishihara², Akira Sasaki³ (1.Inst for Laser Tech., 2.ILE Osaka Univ., 3.JAEA Kansai)

Keywords:Semiconductor lithography,Laser-produced plasmas,Radiation Hydrodynamic simulation

我々は次世代半導体リソグラフィーに用いる波長13.5nm の EUV 光源の開発を進めている。我々は過去 10 年以上に渡り、一次元及び二次元の放射流体計算コードを開発し、プラズマの解析に用いて来た。これらは非保存形でかかれていたが、二段階照射方式を対象として計算するにあたり、 非保存形スキームの欠点である質量等保存量の非保存性が顕著に解に影響するようになって来た。これに対し、我々は保存形スキームを用いた二温度放射流体コードを開発し、長時間計算でも計算精度を保てるようにした。開発したコードを用いた100nsを超えるレーザー照射されたスズドロップレットのダイナミクス計算を現在行っており、講演では結果の詳細を報告する。