2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

合同セッションK » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[19p-P12-1~27] 21.1 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2016年3月19日(土) 16:00 〜 18:00 P12 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[19p-P12-11] Fe支援CBD法によるCu2O薄膜の成長

寺迫 智昭1、大森 裕也2、佐伯 拓哉2、門田 直己2、宮田 晃2 (1.愛媛大院理工、2.愛媛大工)

キーワード:溶液成長法、酸化銅

本講演では、CBD法をベースとする新奇なCu2O薄膜成長法を提案する。