2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 発光イメージングが切り拓く半導体結晶・デバイス評価の明るい未来

[19p-S011-1~11] 発光イメージングが切り拓く半導体結晶・デバイス評価の明るい未来

2016年3月19日(土) 13:30 〜 17:45 S011 (南講義棟)

石河 泰明(奈良先端大)、片山 竜二(東北大)、矢野 裕司(筑波大)

17:00 〜 17:15

[19p-S011-10] 近接場過渡レンズ法によるInGaN単一量子井戸におけるキャリアダイナミクスの評価

塚本 真大1、石井 良太1、船戸 充1、川上 養一1 (1.京大院工)

キーワード:過渡レンズ法、近接場光学顕微鏡、キャリアダイナミクス

サファイア基板上緑色発光InGaN単一量子井戸構造の試料に関して,近接場光学顕微鏡を用いた過渡レンズマッピング測定とPLマッピング測定を同一領域にて行った結果を提示し,キャリアの再結合ダイナミクスに関する検討を行う予定である.