2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)

岡田 真(兵庫県立大)、横尾 篤(NTT)

16:30 〜 16:45

[19p-S224-12] 両末端シラノールPDMSによって成膜したPDMS離型膜の評価

岡田 真1、松井 真二1 (1.兵県大高度研)

キーワード:離型膜、ナノインプリント