2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)

岡田 真(兵庫県立大)、横尾 篤(NTT)

17:15 〜 17:30

[19p-S224-15] フェムト秒パルスレーザーを用いて作製したポリイミド孔版のホール形状と光硬化性液体の吐出量の関係

田辺 明1、大町 弘毅1、〇中村 貴宏1、佐藤 俊一1、中川 勝1 (1.東北大多元研)

キーワード:光ナノインプリントリソグラフィー、レーザー穴あけ加工、スクリーン印刷

当研究グループではこれまで、易擬縮性ガスを用いたバブル欠陥フリー光ナノインプリントリソグラフィに適した光硬化性液体NL-SK1を開発すると共に、モールドのパターン疎密に対応した残膜厚均一化のために、メッシュフリー孔版を用いた孔版印刷法が同液体の位置選択的塗布に有用であることを示した。本研究では、光硬化性液体NL-SK1の吐出量制御のためにフェムト秒パルスレーザーを用いたポリイミドフィルムへの穴あけ加工により孔版を作製し、その加工孔形状が吐出量に与える影響を調査した。