[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-7] ダブルナノインプリントグラフォエピタキシーによって作製した液晶高分子パターンの分子配向評価

〇岡田 真¹、谷口 雄亮²、春山 雄一¹、小野 浩司³、川月 喜弘²、松井 真二¹ (1.兵県大高度研、2.兵県大工、3.長岡技科大)

キーワード：ナノインプリントグラフォエピタキシー、分子配向