2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)

岡田 真(兵庫県立大)、横尾 篤(NTT)

15:45 〜 16:00

[19p-S224-9] 新規のリバーサルインプリントを用いた微細パターン付き三次元構造の作製

〇(B)澤田 裕樹1、藤井 一緒1、川田 博昭1、安田 雅昭1、平井 義彦1 (1.大府大)

キーワード:リバーサルインプリント、3次元構造、ポリビニルアルコール