[19p-S423-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19p-S423-13] SiO₂膜の破壊強度

〇石塚 典男¹、佐久間 憲之¹ (1.日立研開)

キーワード：MEMS、膜、強度