[19p-S423-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19p-S423-2] 水を原料ガスとするプラズマを用いたミニマルファブ用アッシング装置の開発

〇(M1)北野 卓也¹、伊藤 卓也¹、鈴木 宏明¹、石島 達夫¹、田中 康規¹、上杉 喜彦¹、クンプアン ソマワン²、原 史朗² (1.金沢大、2.産総研)

キーワード：マイクロ波プラズマ、レジスト除去、ミニマル