The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.7 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[19p-W611-1~13] 8.7 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

Sat. Mar 19, 2016 2:30 PM - 6:00 PM W611 (W6)

Kohki Satoh(Muroran Inst. of Tech.), Tatsuru Shirafuji(Osaka City Univ.)

2:45 PM - 3:00 PM

[19p-W611-2] Dependence of CH4 yield and generation rate on CO2 gas flow rate in methanation of CO2 with helicon discharge plasma

Susumu Toko1, Koga Kazunori1, Masaharu Shiratani1 (1.Kyushu University)

Keywords:plasma,methanation

近年、CO2の削減とCO2の再資源化を同時に実現する、CO2からのCH4ガス生成が注目されている。我々は、ヘリコンプラズマを用いてメタン化を行った際の、CH4収率と変換速度のCO2ガス流量依存性について研究を行った。その結果、H2流量がCO2流量に比べて十分に高い場合、CH4収率が高くなることが分かった。また、変換速度については、本実験条件の場合、CO2ガス流量が0.5 sccmの場合最大となった。