2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[20a-H101-1~10] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2016年3月20日(日) 09:00 〜 11:45 H101 (本館)

旦野 克典(トヨタ自動車)

10:15 〜 10:30

[20a-H101-6] 溶液法による4H-SiCバルク結晶成長と結晶品質評価

楠 一彦1、関 和明1、岸田 豊1、海藤 宏志1、森口 晃治1、岡田 信宏1、大黒 寛典2、加渡 幹尚2、土井 雅喜2、旦野 克典2、関 章憲2、佐藤 和明2、別所 毅2、原田 俊太3、宇治原 徹3 (1.新日鐵住金、2.トヨタ自動車、3.名大)

キーワード:SiC、溶液成長

溶液法によるSiCの結晶成長は、高品質結晶が得られる手法として注目されている。当研究グループはこれまでに、溶媒の最適化や溶液の撹拌方法の改善による成長速度向上、メニスカス成長による長尺成長、成長界面制御による溶媒インクルージョンの抑制等、溶液法によるSiCの成長の様々な技術課題の解決に取り組んできた。その結果、現在は4°オフの溶液法ウエハの試作を行っている。本発表では、当研究グループの溶液法によるバルク結晶成長技術と、得られた溶液法ウエハの結晶品質について報告する。