[20a-KD-1~5] 8.2 プラズマ診断・計測

△ [20a-KD-4] 低コヒーレンス光干渉法を用いたハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリングプロセスにおける高精度シリコン基板温度計測

〇(M1)服部 克宏¹、太田 貴之¹、小田 昭紀²、上坂 裕之³ (1.名城大理工、2.千葉工大、3.名大院工)

キーワード：基板温度計測、低コヒーレンス光干渉法、スパッタリング