[20a-S222-1~11] 21.1 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[20a-S222-11] ミストCVD法による菱面体晶ITOのヘテロエピタキシャル成長

〇西中 浩之¹、吉本 昌広¹ (1.京工繊大)

キーワード：透明導電膜、ITO