[20a-S222-1~11] 21.1 Joint Session K

△ [20a-S222-7] Transparent conductive ITO and IZO films deposited by reactive sputtering with plasma emission feedback system

〇Yusuke Miyazaki¹, Eri Maruyama¹, Junjun Jia¹, Hironobu Machinaga², Tsukasa Miyazaki², Yuzo Shigesato¹ (1.Aoyama Gakuin Univ., 2.Nitto Denko Co.)

Keywords:sputtering,ITO,IZO

本研究では合金ターゲットを用いた、反応性dcマグネトロンスパッタ法によりIZOおよびITO薄膜を作製し、物性解析を行った。反応性スパッタプロセス制御のために高速のPID制御器を用いたプラズマ発光制御法を採用し、成膜はPET基板および石英基板上に行った。プラズマ発光制御を用いて150⁰Cに加熱したガラス基板上に作製したIZOおよびITO薄膜の最小比抵抗値はそれぞれ3.0×10^-4 Ωcm, 4.5×10^-4 Ωcmであり、可視光透過率は80%以上を示した。