2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-S224-1~9] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年3月20日(日) 09:30 〜 12:00 S224 (南2号館)

堀内 敏行(電機大)、田中 聡(EIDEC)

09:30 〜 09:45

[20a-S224-1] フォトダイオードを用いたEUVレジストの透過率測定法の開発

豆崎 大輝1、渡辺 雅紀1、井口 晴貴1、原田 哲男1、渡邊 健夫1 (1.兵庫県立大学)

キーワード:EUVリソグラフィー、EUVレジスト、シンクロトロン